Beursblik: xLight voorlopig geen bedreiging voor ASML
(ABM FN-Dow Jones) De Amerikaanse halfgeleider start-up xLight vormt in de komende vijf tot tien jaar geen "geloofwaardige" bedreiging voor ASML. Dit stelden analisten van Jefferies dinsdag in een rapport.
Maandagavond maakte het Amerikaanse ministerie van Handel een investering van 150 miljoen dollar bekend in xLight, dat zich bezighoudt met geavanceerde halfgeleidertechnieken en mikt op een technologie die een alternatief moet worden voor extreme ultraviolet of EUV-lithografie. ASML is momenteel de enige wereldwijde producent van EUV-machines.
"Onlangs heeft ook een andere Amerikaanse start-up, Substrate, zijn goedkopere EUV-systeem op basis van röntgenstraling gepresenteerd, eveneens met als doel de Amerikaanse halfgeleidercapaciteit terug te brengen naar het vroegere niveau", aldus Jefferies.
Toch is er voor ASML de komende jaren nog geen concurrentie "gezien de complexiteit van het bouwen van een volledig EUV-systeem", aldus de zakenbank.
"Op langere termijn kunnen meerdere van dergelijke inspanningen echter wel van invloed zijn op de waarderingen", meent Jefferies.
Omdat alternatieve lichtbronnen zoals die waar xLight aan werkt, de mogelijkheden van bestaande ASML-systemen mogelijk verbeteren, hoeft een bedrijf wellicht geen volgende generatie systeem aan te schaffen.
"Door vier keer zoveel EUV-vermogen te leveren, zal de productiviteit aanzienlijk stijgen, wat miljarden aan extra jaarlijkse inkomsten per ASML-scanner oplevert", aldus Jefferies.
Als dit werkt, zal dit dus ook de vraag naar ASML-scanners verminderen, volgens de zakenbank. Toch vindt Jefferies het "onwaarschijnlijk" dat xLight zal slagen.
Op kortere termijn komt het gevaar bovendien uit China, waarschuwen de analisten.
"We blijven van mening dat de meer directe bedreiging voor het immersielithografiesysteem binnen vijf jaar waarschijnlijk zal komen uit China, onder de paraplu van Huawei", aldus Jefferies.
Het aandeel ASML noteerde dinsdag 0,4 procent hoger op 930,30 euro.